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基片表面傾斜及衍射對(duì)激光會(huì)聚原子沉積條紋的影響
時(shí)間:2025-08-15 17:05來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:打印
張寶武,張超超,劉若男,王道檔,沈小燕,余桂英
(中國(guó)計(jì)量大學(xué)計(jì)量測(cè)試工程學(xué)院,浙江 杭州310018)
目的:探究基片對(duì)激光會(huì)聚原子沉積的影響。方法:根據(jù)光學(xué)勢(shì)阱中原子運(yùn)動(dòng)的軌跡方程,對(duì)會(huì)聚場(chǎng)的光學(xué)勢(shì)阱、原子運(yùn)動(dòng)軌跡和沉積條紋等進(jìn)行了仿真實(shí)驗(yàn)。結(jié)果:衍射式光學(xué)勢(shì)阱使原子軌跡提前會(huì)聚,進(jìn)而與傾斜角一起對(duì)沉積條紋的質(zhì)量參數(shù)產(chǎn)生了影響。在正傾時(shí),隨著的增大,條紋半高寬增大,條紋峰值減小;在負(fù)傾斜時(shí),隨著的增大,條紋半高寬保持不變,條紋峰值增大;同時(shí)隨著的增大,沉積條紋的峰值位置相對(duì)于波節(jié)的偏移量趨向單調(diào)增大。在非衍射條件下,偏移量增大4nm;在衍射條件下,偏移量增大15nm。結(jié)論:由于衍射的存在,不管基片表面正傾斜還是負(fù)傾斜,基片表面上方沿著z方向都會(huì)存在一個(gè)直邊衍射式的光學(xué)勢(shì)阱。
【關(guān)鍵詞】計(jì)量;激光會(huì)聚;光學(xué)勢(shì)能;衍射;傾斜度






 
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